专利摘要:

公开号:WO1988000086A1
申请号:PCT/JP1987/000429
申请日:1987-06-26
公开日:1988-01-14
发明作者:Hiroshi Kohno;Nariyoshi Higuchi;Miki Yamagishi;Tsuneharu Miyachi
申请人:Nippon Kokan Kabushiki Kaisha;
IPC主号:B05B3-00
专利说明:
[0001] 明 細 書 排ガス 中 の有害ガス 除去用 薬剤噴霧装置 技術分野
[0002] こ の発明 は排ガス 中の塩化水素等の有害ガス を 除去す る 薬 剤、 例.え ば消石灰等の ス ラ リ ー又 は水溶液を排ガス の 中 に 噴 霧す る 装置 に関す る も の で あ る 。 背景技術
[0003] ごみ焼却炉等か ら 発生す る 排ガス 中 の有害ガス (主 と し て 塩化水素, S O x ) の除去方法 と し て、 排ガ ス 中 に ス ラ リ ー 又 は水溶液の有害ガス 除去用薬剤を ό賁霧す る 半乾式法 に よ る も のが知 ら れて い る 。 こ の半乾式法 は 除去用薬剤を ス ラ リ ー 又 は水溶液 と し て、 反応塔内で排ガス 中 の有害ガス と 反応 し 排ガ ス の保有熱で乾燥 さ れた反応生成物 と し て排ガ ス 中 か ら 除去 さ れる 。
[0004] 第 4 図は前述 し た反応塔内 に装備 さ れ る 従来の薬剤噴霧装 置を示す。 こ の薬剤噴霧装置 は、 反応塔 ( 図示せず) 内 の 排 ガ ス 中への薬剤噴霧位置、 例 え ば反応塔の上部 内側 に 固定 さ れ る 装置本体 1 と 、 こ の装置本体 1 の下側 に、 例 え ば l O m m 程度の隙間 G を あ け て配置 さ れ前記本体 1 を貫通す る 中心回 転軸 2 に よ っ て高速回転 さ れ る 回転円盤 3 と を 備 え て い る 。 前記装置本体 1 に は、 有害ガス 除去用薬剤、 例 え ば消石灰ス ラ リ ーが導入パ イ プ 4 を介 し て少流量で供給 さ れ る 薬剤供給 部- 5 が設け られて い る 。 こ の薬剤供給部 5 は、 上部が蓋体 6 によ っ て閉塞さ れ下部が流出孔 7 に よ つ て下降 し た室と し て 形成 さ れて い る 。 ま た前記回転円盤 3 に は薬剤供耠部 5 か ら 流下す る 除去用薬剤の流入開 口部 8 と 、 流入薬剤の受入室 9 が設け ら れて い る と 共に、 こ の受入室 9 に入 っ た薬剤を回転 遠:心力 に よ っ て 円盤外周部か ら 排ガス中 に噴霧 さ せ る 複数個 の噴霧ノ ズル 1 0 が設け ら れてい る 。
[0005] し か し て、 こ の薬剤噴霧装置 は消石灰ス ラ リ ー塔の除去用 薬剤が本体供给部 5 か ら 回転円盤 3 内に少量ずつ連練的 に供 給 れ、 回転円盤 3 の 高速回転に よ る 遠心力 を原動力 と し て 噴霧ノ ズル 1 0 力、 ら 噴霧さ れ る も のであ る 。 し たが つ て前記 円盤 3 の高速回転時に こ の 円盤内が負圧 と な り 、 こ の ため周 囲の排ガス が装置本体 1 と 回転円盤 3 と の隙間 G か ら 回転円 盤 3 内 に巻き 込ま れ、 除去用薬剤 と 一緒にな つ て前記 ノ ズル 1 0 力、 ら 噴出 さ れ る よ う に な る 。.然 る に、 前記排ガス に は炭 酸ガスが含有さ れてい る た め、 前記薬剤が消石灰ス ラ リ ーの 場合に は、 こ の消石灰と 排ガス 中 の炭酸ガスが化学反応 し て 炭酸カ ノレ シ ゥ ム と な り 、 そ の生成直後の炭酸カ ル シ ウ ムが前 記 ノ ズル 1 0 の 内面に付着 し て、 こ の ノ ズルを閉塞す る と い う 問題が発生 し た。
[0006] こ の よ う な 問題を解消す る た め に 、 本出願人は装置本体の 薬剤供給部 ま た は装置本体 と 回転円盤 と の隙間部に外気が導 入 さ れ る空気吹込管を接続 し 、 こ こ か ら 吹込ま れ る 空気圧 に よ っ て回転円盤内の高速回転時に お け る 内圧を、 装置本体が 設置 さ れてい る 反応塔の 内圧 よ り 高い圧力 に維持す る よ う に し た排ガス 中 の有害ガス 除去用薬剤噴霧装置 を特願昭 5 7 - 1 9 4 3 2 8 号 に係わ る 先願発明 と し て 出願 し て い る
[0007] 前記先願発明 の噴霧装置 は、 同明細書 に 記載の如 き 効果を 奏す る が、 回転円盤の 内圧 を上げ る た め に 吹込 ま れ る 空気が 炭酸ガス を含 む外気導入空気で あ る の で 、 こ の 空気中 の炭酸 ガ ス は排ガス 中 の炭酸ガス に比ベて僅かで は あ る が、 排ガス が回転円盤内 に巻 き 込 ま れ た場合 と 同様な 問題が発生す る 。 す な わ ち 、 炭酸ガ ス を含 む空気が回転円 盤 内 に 吹 き 込 ま れ る と 、 こ の空気中 の炭酸ガス と 噴霧薬剤が回転円盤内で 化学反 応 し て炭酸カ ル シ ゥ ム と な り 、 そ の生成直後の炭酸 カ ノレ シ ゥ 厶 が ノ ズル内面 に付着 し て 、 こ の ノ ズル を 閉塞す る と い う 問 題が発生す る 。 た だ し 、 空気の 中 に 含 ま れ る 炭酸ガス は排ガ ス の 中 に含 ま れ る 炭酸ガス に比ベて僅かで あ る の で、 3 ヶ 月 位 は ノ ズルの 閉塞は発生せず、 そ の 発生時期を排ガス が巻 き 込 ま れ る 従来装置 よ り 大幅 に遅 ら す こ と がで さ る 。 発明の 開示
[0008] こ の発明 は ノ ズルの 閉塞時期を大幅 に 延長す る こ と 、 例 え ば 6 ヶ 月 位経過 し た後 に お い て も ノ ズル の 閉塞が発生 し な い よ う に し た排ガス 中 の有害ガス 除去用 薬剤噴霧装置 を提供す る こ と を 目 的 と す る 。
[0009] こ の発明 は前記の 目 的 を達成す る た め に 、 装置本体の薬剤 供給部 ま た は装置本体 と 回転円盤 と の隙間部 に 不活性ガス ま た は脱炭酸ガス空気の圧力 に よ っ て 回転円盤 内 の高速 回転時 に お け る 内圧を、 装置本体が設置 さ れて い る 反応塔の 内圧 と 同 じ かそれよ り も 高い圧力 に維持す る こ と を特徵 と す る も の
[0010] C め <
[0011] 不活性ガス ま た は脱炭酸ガス 空気は、 前述 し た先願発明 に お け る 外気導入空気の よ う に炭酸ガス を含ま な い の で、 噴霧 薬剤 と の化学反応 に よ る 炭酸カ ル シ ウ ム の生成 は ほ と ん ど な く 、、 ノ ズル の 閉塞時期を大幅に延長す る こ と 、 即ち 6 ヶ月 位 経 iii た後におい て も ノ ズルの 閉塞が発生 し な い よ う にす る こ::とが-で き るひ 図面の簡単な説明
[0012] 第 1 図 は本発明の実施例に よ る 排ガス 中 の有害ガス 除去用 薬剤噴霧装置を示す主要部の断面図、
[0013] 第 2 図及び第 3 図 は本発明装置に付設さ れる 消石灰ス ラ リ —及び'生石灰に よ る 脱炭酸ガ ス処理装置を示す説明 図、
[0014] 第 4 図は従来装置を示す要部断面図であ る 。 発明を実施する た め の最良の形態
[0015] 以下、 こ の発明 に よ る 装置の実施例 を第 1 図 の 図面に従い 説明す—る と 、 こ の実施例 は第 4 図 に示す も の と 同様な薬剤噴 霧装置 (同一部分に 同符号を付 し て具体的説明 は省略す る ) にお い て、 装置本体 1 の薬剤供给部 5 ま た は装置本体 1 と 回 転円盤 3 との隙間部 0 (図示例 は前者の場合を示 し て い る ) に反応:塔の外部か ら 不活性ガス ま た は脱炭酸ガ ス処理を施 し た:空気を導入す る 吹込管 1 1 を接続 し て、 こ こ か ら 吹 き込 ま れ る 不活性ガス ま た は脱炭酸ガス空気の圧力 に よ っ て回転円 盤 3 内 の高速回転時 に お け る 内圧を、 装置本体 1 が設置 さ れ る 反応塔 (図示せず) の 内圧 と 同 じ か又 は そ れよ り も 高い圧 力 に維持 さ せ る よ う に し た も の で あ る 。 そ し て前記円盤内圧 の コ ン 卜 ロ ー ル は 回転円盤 3 の薬剤流入開 口 部 8 の 上方位置 に配置 し た圧力検出器 1 2 に よ っ て、 回転円盤 3 内 に供袷 さ れ 圧力 を検出 し 、 こ の検出信号で吹込管路 1 3 の 調 整バ ル ブ 1 4: を制御す る こ と で行 う よ う に し て い る 。
[0016] な;お、 前記の よ う な 円盤 内圧の維持方法 に は、 圧力検 出 器 1 2;を用 い な いで簡単 に行 う 方法 も あ る 。 す な わ ち 、 前記回 転円 盤 3 は低速回転 し 内部 に略一定の 負圧が生 じ る の で、 こ の一定の負圧 に見合 う 定圧定流量で不活性ガス ま た は脱炭酸 ガス空気を吹込み供給すれば、 回転円盤 3 の 内圧 を反応塔内 圧 と 同 じ か又 は そ れ よ り も 高い圧力 に維持す る こ と がで き る 。 第 2 図及び第 3 図 は前記吹込管 1 1 に脱炭酸ガ ス 空気を供 給す—る 場合 の脱炭酸ガ ス処理装置 を示す も の で 、 第 2 図 の 脱 炭酸ガス 処理装置 は 消石灰 と 水を供給 し 撹拌羽根 1 5 で撹拌 さ せ て消石灰ス ラ リ ー を 作 る 消石灰ス ラ リ ー タ ン ク 1 6 ( こ の 夕 ン ク 内 の 消石灰ス ラ リ 一力 ポ ン プ 1 7 及び配管 1 8 を介 し て第 1 図 に示す ス ラ リ ー導入パ イ プ 4 に送 ら れ る よ う に な つ て い る ) と 、 消石灰ス ラ リ ー タ ン ク 1 6 に 配管接続 さ れ こ の タ ン ク 1 6 内 の 消石灰ス ラ リ ーが供給 ポ ン プ 1 9 の 作動で 導入 さ れ定量 ポ ン プ 2 0 の作動で定量維持 さ れ る 密閉型の空 気洗浄 タ ン ク 2 1 と 、 こ の空気洗浄 タ ン ク 2 1 内 の 消石灰ス ラ リ 一 の 中 に 減圧弁 2 2 の付 い た 配管 2 3 を介 し て空気を送 込:.むェャコ ン プ レ ッ サー 2 4 と を具備 し 、 空気洗浄 タ ン ク 2: 1 内 に送 っ た空気を消石灰ス ラ リ 一 に よ っ て脱炭酸ガス処 理 し 、 こ の処理済み の脱炭酸ガス空気を ェャ ポ ン プ 2 5 の作 動に よ っ て第 1 図 に示す吹込管路 1 3 か ら 脱炭酸ガ ス空気の 吹込管 1 1 へ供給す る よ う に構成 さ れて い る 。
[0017] ま こ、 第 3 図に示す脱炭酸ガス処理装置は生石灰の供給 口 一-夕-リ ーバノレ ブ 2 6 及び排出 口 一 タ リ 一バノレブ 2 7 と 、 開 閉 可能:な;シール ゲー ト 2 6 a , 2 7 a を備えた空気洗浄塔 2 8 内-:に粒状.の生石灰 2 9 を充填 し 、 こ の生石灰 2 9 の 中 に ェ ャ コ:ン プ レ ッ サ一 3 0 か ら 減圧弁 3 1 で減圧 し た空気を送込み こ の空気の脱炭酸ガス処理を生石灰 2 9 に よ っ て行な い、 空 気洗浄塔 2 8 の排気 口 2 8 a か ら 取出 し た脱炭酸ガ ス空気を ェャ ポ ン プ塔 (図示省略) に よ り 第 1 図 に示す吹込管路 1 3 か ら 脱炭酸ガス空気の 吹込管 1 1 へ供給す る よ う に構成 さ れ て Λ、 る 。
[0018] 前記'の よ う な脱炭酸ガス処理装置を用 い て、 脱炭酸ガス空 気:を装置本体 1 の薬剤供铪部 5 ま た は装置本体 1 と 回転円盤 3:::と の隙間瓿 G に吹込む よ う にす る と 、 噴霧薬剤 と の 化学反 応 に よ る 炭酸カ ル シ ウ ム の生成は ほ と ん ど な く な り 、 閉塞防 止用 ガス 吹込管がな い従来装置 (第 4 図 に示す従来装置) あ る い は外気導入空気吹込み型の先願発明装置 に比べて、 ノ ズ ルの 閉塞時期を大幅に延長す る こ と 、 例え ば 6 ヶ月 位経過 し た後に お い て も ノ ズルの 閉塞が発生 し な い よ う にす る こ と が 可能 と な り 、 本発明装置を ゴ ミ 焼却炉排ガ ス に適用 し た場合 は—、 通常運転に 際 し充分な可動時間を与え る こ と がで き る 。 ま た、 前記吹込管 1 1 に不活性ガス を供給す る 場合 は 、 不 活性ガス と し て窒素ガス 等を用 い る こ と がで き 、 こ の場合 は 窒素ガス 等を高圧充填 タ ン ク か ら 減圧 し て供給すれば よ く 、 こ の方式で も 脱炭酸ガス 空気の場合 と 同様な効果を奏す る こ と 力 で き る 。
[0019] な お、 空気の脱炭酸を 消石灰ス ラ リ ーで行 う 場合の反応式 は.
[0020] C.0 2 + C a ( O H ) 2 → C a C 0 3 + H 2 0
[0021] と な り 、
[0022] 生石灰で行 う 場合 は
[0023] C 0 2 + C a 0→ C a C 0 3
[0024] と な る 。 産業上の利用 可能性
[0025] こ の 発明 の排ガス 中 の有害ガス 除去用薬剤噴霧装置 は 、 前 述. し た よ う に装置本体の薬剤供給部 ま た は装置本体 と 回転円 盤 と の 隙間部 に 不活性ガス ま た は脱炭酸ガ ス 空気の 吹込管を 接続 し 、 こ こ か ら 吹込 ま れ る 不活性ガス ま た は脱炭酸ガ ス 空 気の 圧力に よ っ て 回転円盤内 の 高速 回転時 に お け る 内圧 を、 装置本体が設置 さ れて い る 反応塔の 内圧 と 同 じ か又 は そ れ よ り も 高い圧力 に維持す る も の で あ っ て、 不活性ガス ま た は脱 炭酸ガ ス 空気 は先願発明 に お け る 外気導入空気の よ う に炭酸 ガス を含 ま な い の で、 噴霧薬剤 と の 化学反応 に よ る 炭 酸 カ ル シ ゥ ム の生成 は ほ と ん ど な く 、 ノ ズ ル の 閉塞時期 を大幅 に 延 長す る こ と がで き 、 本発明装置 を実際 に 運転 し て実験 し て み
[0026] 。
[0027] y っ ^ ¾ 塞 W Co ( ^ ^ ΜΈ^ Μ ^ 9 、 Π
[0028] ひ 00 8df/l d 98000/88 OM
权利要求:
Claims 請求の範囲
( 1 ) 薬剤供給部を有 し 反応塔 内 の薬剤噴霧位置 に設置 さ れ る 装置本体 と 、 こ の装置本体の下側 に隙 間 を あ け て配置 さ れ前記本体を貫通す る 中心回転軸 に よ つ て高速回転 さ れ る 回 転.円盤 と か ら な り 、 こ の 回転円 盤 は薬剤供給部か ら 流下す る 薬剤の流入開 口 部お よ び流入薬剤の受入室 を有 し 且つ こ の 室 内 に 流入 し た薬剤を 回転遠心力 に よ り 外周部か ら 噴 出 さ せ る 複数個の噴霧 ノ ズルを備え た 排ガス 中 の有害ガス 除去用薬剤 の 噴.霧装置で あ っ て、 前記装置本体の 薬剤供給部 ま た は装置 本体と 回転円盤 と の隙 間部に不活性ガ ス ま た は脱炭酸ガ ス 空 気の 吹込管を接続 し 、 こ こ か ら 吹込 ま れ る 不活性ガス ま た は 脱炭酸ガス 空気の圧力 に よ っ て 回転円盤内 の 高速回転時 に お け る 内圧 を、 装置本体が設置 さ れて い る 反応塔の 内圧 と 同 じ か ま た は高 い圧力 に維持す る こ と を特徵 と す る 排ガ ス 中 の有 害ガス除去用薬剤噴霧装置。
( 2 請求範囲第 1 項の薬剤噴霧装置 に お い て 、 円 盤 内圧 の コ ン ト ロ ー ル は、 回転円盤の薬剤流入開 口 部の 上方位置 に 圧力検出器を配置 し 、 こ の圧力検出器 に よ っ て、 回転 円盤 に 供給 さ れ る 圧力 を検出 し 、 こ の検出信号で吹込み管路の 調整 バ ル ブを制御す る こ と を特徴 と す る 。
( 3 ) 請求範囲第 1 項の薬剤噴霧装置 に お い て、 円盤 内圧 の コ ン ト ロ 一 ル は、 回転円盤の 回転 に よ つ 生 じ た 負圧 に 見合 う 量の 不活性ガス ま た は脱炭酸ガス 空気を前記吹込み 管か ら 前記本体の 薬剤供给部 ま た は装置本体 と 回転円盤 と の 隙 間部 に定圧定流量で吹込み供給す る こ と に よ り お こ な う こ と を特 徵 と する 。
( 4 ) 請求範囲第 1 項記載の薬剤噴霧装置に お い て、 吹込 み管 に脱炭酸ガス空気を供给す る 装置 は、 消石灰ス ラ リ ーを Ιίる タ ン ク と 、 こ の タ ン ク に接続さ れ こ の タ ン ク 内 の 消石灰 ス ラ リ 一が供給ポ ン プの作動で導入 さ れ定量ポ ン プの作動で 定量維持 さ れ る 密閉型の空気清浄 タ ン ク と、 こ の空気洗浄 タ ン ク 内の 消石灰ス ラ リ ーの 中 に減圧弁の付い た配管を介 し て 空気を送 り こ むエ ア コ ン プ レ ッ サー と 、 前記空気清浄 タ ン ク と前記脱炭酸ガス空気の 吹込み管 と の間を接続す る 吹込み管 路 と を具備 し て い る こ と を特徵 と す る 。
( 5 ) 請求範囲第 1 項記載の薬剤噴霧装置 にお い て、 吹込 み管に脱炭酸ガス を供给す る 装置 ば、 生石灰の供給 ロ ー タ リ 一バル ブ、 排出 口 一 タ リ 一バル ブお よ び開閉可能な シ一ルゲ ー ト を備え た空気清浄塔を具備 し 、 こ の空気清浄塔内 に充填 された粒状の生石灰の 中 に減圧弁で減圧 し た空気を送 り 込む エ ア コ ン プ レ ッ サ と を具備 し 、 生石灰で脱炭酸ガス処理を行 なわれた空気 は、 空気清浄塔の排気口 か ら取出 さ れて前記吹 込み管に供辁す る よ う に し た こ と を特徴 と す る 。
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引用文献:
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法律状态:
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1988-02-19| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1987904123 Country of ref document: EP |
1988-06-22| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1987904123 Country of ref document: EP |
1993-04-09| WWW| Wipo information: withdrawn in national office|Ref document number: 1987904123 Country of ref document: EP |
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
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